Microstructure and corrosion resistance of vanadium films deposited at different target-substrate distance by HPPMS
2014
? 厘米表明最好的腐蚀电阻,腐蚀潜力增加 0.19 ? V 和与底层的相比由一个数量级减少的腐蚀水流。样品进一步增加在腐蚀电阻的改进在退火以后,并且如果与退火的铝合金的相比,吗然后,样品的腐蚀潜力在 20 点制作了?在 0.415 的厘米增加?在在 200 点退火了以后, V 和腐蚀水流由二个数量级减少?郱?? 吗??
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