Bildung siliciumorganischer Verbindungen. 75. Bildung und Reaktionen C-chlorierter 1,1,3,3-Tetrachloro-1,3-disilacyclopentane†

1979
Die Photochlorierung von 1 beginnt am vicinalen C-Atom unter Bildungvon2, das zu 3 weiterreagiert. Es folgt die Bildungvon 5 und schlieslich die von 7. Die CH-Gruppen mit der grosten Tieffeldverschiebung im 1H-NMR-Spektrum werden bevorzugt chloriert. Die Umsetzung von 3 mit meMgCl beginnt mit der Methylierung des Si-Atoms, das der CCl2-Gruppe nicht benachbart ist; Bildungvon 10. 10 spaltet beim Erwarmen HCl ab zu 11 oder erleidet unter β-Eliminierung eine Ringspaltung zum me2ClSiCH2SiCl2CClCH2. 5 setzt sich mit meMgCl (6 Mol) in et2O zu 19 um, ohne das eine Ringspaltung eintritt. 7 bildet mit meMgCl (10 Mol) in et2O durch β-Eliminierung 1,3-Disilapentene, z. B. me3SiCCl2CClCCl2. Die entsprechende Reaktion in Pentanfuhrt dagegen zum 1,1,3,3-Tetramethyl-2,2,4,4,5,5-hexachloro-1,3-disilacyclopentan. Formation of OrganosiliconCompounds. 75. Formation and Reactions of 1,1,3,3-Tetrachloro-1,3-disilacyclopentanes 1 (Formulae see “Inhaltsubersicht”) is photochlorinated in the first step at a vicinal C atom forming 2, which reacts on to yield 3. The photochlorination continues with the formation of 5 and, finally, of 7. The CH-groups with the lowest 1H-NMR shift are preferently chlorinated. The reaction of 3 with meMgCl starts with the methylation of the Si atom which is not adjacent to the CC12 group to form 10. On heating 10 eliminates HCl yielding 11, or suffers ring cleavage via β-elimination forming me2ClSiCH2-SiC12-CCICH2. 5 reacts with meMgCl(6 mol) in et2O to form 19 without any ring cleavage. 7 reacts with meMgC1 (10 mol) in et2O to form 1,3-Disilapentenes as me3Si-CC12-Sime2-CClCC12, e. g. by β-elimination. The corresponding reaction in pentane, on the contrary, yields 1, 1, 3, 3-Tetramethyl-2,2, 4,4,5,5-hexachloro-l, 3-disilacyclopentane
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